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DLC類金剛石減摩絕緣鍍層PVD

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  • 主營產(chǎn)品|DLC金剛石涂層,二硫化鉬MoS2真空鍍,氮化鈦CrN鍍層
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品牌上海涓微 有效期至長期有效 最后更新2024-09-03 09:31
高硬度高硬度-60GPa或Hv4800以上; 摩擦系數(shù)0.02 膜厚1-4UM
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DLC類金剛石減摩絕緣鍍層PVD

DLC涂層真空鍍膜生產(chǎn)工藝流程一般包括DLC鍍膜前處理、DLC鍍膜和DLC鍍膜后處理3大步。

  DLC鍍膜前處理是獲得良好鍍層的前提,DLC鍍膜一般包括機械加工、酸洗、除油等步驟。DLC鍍膜機械加工是指用機械的方法,DLC鍍膜除去鍍件表面的毛刺、氧化物層和其他機械雜質(zhì),使鍍 件表面光潔平整,這樣可使DLC鍍膜與基體結合良好,防止毛刺的發(fā)生。DLC鍍膜酸洗的目的是為了除去鍍件表面氧化層或其他腐蝕物,DLC鍍膜除油的目的是清除基體表面上的油脂。

  DLC鍍膜件經(jīng)鍍前處理,即可進人DLC鍍膜工序。DLC鍍膜在進行DLC鍍膜時還必須注意DLC鍍膜液的配方,電流 密度的選擇以及溫度、等的調(diào)節(jié)。DLC鍍膜需要說明的是,單鹽電解液適用于形狀簡單、外觀 要求又不高的鍍層,絡鹽電解液分散能力高,DLC鍍膜時電流密度和效率低,DLC鍍膜主要適用于表面 形狀較復雜的鍍層。

   真空鍍膜設備DLC薄膜沉積材料廣泛:可沉積鋁、鈦、鋯等濕法薄膜無法沉積的低電位金屬,真空鍍膜機DLC薄膜通以反應氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層,而且可以根據(jù)需要設計涂層體系。相對于傳統(tǒng)水電鍍有以下優(yōu)勢

  真空鍍膜設備DLC薄膜節(jié)約金屬材料:真空鍍膜機DLC薄膜由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當優(yōu)良,沉積的鍍層厚度可以遠遠小于常規(guī)濕法類金剛石薄膜鍍層,達到節(jié)約材料的目的。真空鍍膜機DLC薄膜無環(huán)境污染:真空鍍膜機DLC薄膜由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面,沒有溶液污染,所以對環(huán)境沒有危害。

  傳統(tǒng)水電鍍由于對環(huán)境的污染及需要使用一些劇毒原料,已經(jīng)被國家及各級地方所限制發(fā)展。目前一些企業(yè)設立了集中污水處理的水電鍍工業(yè)園,在一定程度上改變了污水亂排放的現(xiàn)象。但污水處理成本高、能耗高,而且造成水資源的浪費。而歐盟等國家對進口產(chǎn)品中六價鉻、鎳的含量也有嚴格限制。真空鍍膜機DLC薄膜相對于傳統(tǒng)水鍍膜的優(yōu)勢,利用真空鍍膜技術逐步替代傳統(tǒng)水電鍍,使我們傳統(tǒng)水電鍍行業(yè)進行技術升級、技術改造,既符合國家環(huán)保政策,又可以滿足產(chǎn)品出口的要求,同時提高出口產(chǎn)品的附加值。

  DLC涂層的特性:

  由于含有金剛石成分,DLC具有很多優(yōu)良的特性:高硬度-60GPa或Hv4800以上;低摩擦系數(shù)0.02;極好的膜層致密性;良好的化學穩(wěn)定性以及良好的光學性能等。應用于模具上的DLC涂層所表現(xiàn)出的特殊性能遠超過其它硬質(zhì)涂層。涂以DLC的沖壓模具主要應用包括:石墨切削,各種有色金屬(如鋁合金,銅合金等)切削,非金屬硬質(zhì)材料(如亞克力,玻璃纖維,PCB材料)切削等。

DLC涂層的工業(yè)化生產(chǎn)開始于上世紀末和本世紀初,和普通的應用于模具上的硬質(zhì)涂層(如TiN, TiAlN, CrN, TiCN等)相比是一種嶄新的涂層技術。目前在世界范圍內(nèi),能將這一技術很好應用的廠家也沒有。DLC是新一代硬質(zhì)涂層技術和應用的典型代表以及發(fā)展方向。

上海瀾福還可提供包括于:MOS2,二硫化鉬,二硫化鎢,特氟龍,鎳特氟龍,碳納米鍍層,聚防爆防水涂層。


供應商信息

上海瀾福實業(yè)有限公司是一家專注新材料研發(fā)和應用的高新技術企業(yè),主要給客戶提供各種鍍層、涂層解決方案,包括航天航空、半導體、汽車、精密配件等高精密領域。DLC類金剛石鍍層,改性碳膜導電涂層,聚脲防水防沖擊涂層,真空鍍二硫化鉬MOS2潤滑鍍層,派瑞林Parylene N鍍膜,碳納米管涂層(620Cnts-G)。鎳鐵氟龍Ni-P- PTFE,

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公司名 上海瀾福實業(yè)有限公司 經(jīng)營模式制造商
注冊資本5000萬人民幣 公司注冊時間2009
公司所在地上海/浦東新區(qū) 企業(yè)類型企業(yè)單位 (制造商)
保 證 金已繳納 0.00 資料認證      
主營行業(yè)噴涂  , 拋光  , 其它  , 
主營產(chǎn)品或服務DLC金剛石涂層,二硫化鉬MoS2真空鍍,氮化鈦CrN鍍層
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